エバネッセント光を応用した超微粒子洗浄現象の実時間観察に関する研究 第2報：非接触洗浄時における超音波と研磨ナノ粒子の除去挙動

寺山 裕; カチョーンルンルアン パナート; 鈴木 恵友; パームパッデーチャークン ティティパット; 濵田 聡美; 和田 雄高; 檜山 浩國

doi:10.11522/pscjspe.2020S.0_660

2020年度精密工学会春季大会

DOI https://doi.org/10.11522/pscjspe.2020S.0_660

会議情報

主催: 公益社団法人精密工学会

会議名: 2020年度精密工学会春季大会

開催地: 東京農工大学

開催日: 2020/03/17 - 2020/03/19

エバネッセント光を応用した超微粒子洗浄現象の実時間観察に関する研究

第2報：非接触洗浄時における超音波と研磨ナノ粒子の除去挙動

*寺山裕, カチョーンルンルアンパナート, 鈴木恵友, パームパッデーチャークンティティパット, 濵田聡美, 和田雄高, 檜山浩國

著者情報

キーワード: 非接触洗浄, メガソニック, 超音波, シリカ・ナノ粒子, エバネッセント光, 表面近傍現象

会議録・要旨集フリー

p. 660-661

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抄録

半導体製造工程で重大な欠陥となるウェハ表面残留研磨ナノ粒子(φ100 nm以下)の洗浄現象が未だ解明されていない．そこで，表面近傍でのナノ粒子離脱・再付着挙動をエバネッセント光によって実時間観察する手法が確立されてきた．これまで，PVAブラシによる接触洗浄現象の観察を行ってきた．本稿では，予めナノ・シリカ粒子(φ100 nm以下)を付着させた酸化・窒化膜のガラス基板表面を用意し，洗浄液中において2MHzの超音波を照射することで非接触洗浄現象を再現した．その可視化した結果を報告する．

責任著者(Corresponding author)

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