静電スプレー（ES）法によるPEFC 用低白金担持 Pt/Ta-SnO2 カソードのセル性能の改善

内田 誠; 柿沼 克良; 飯山 明裕

doi:10.11351/jsaeronbun.50.90

研究論文

静電スプレー（ES）法によるPEFC 用低白金担持 Pt/Ta-SnO₂ カソードのセル性能の改善

内田誠, 柿沼克良, 飯山明裕

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ジャーナルフリー

2019 年 50 巻 1 号 p. 90-95

DOI https://doi.org/10.11351/jsaeronbun.50.90

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抄録

Pt担持グラファイトカーボンブラック触媒(Pt/GCB) および、高電位での耐久性向上が期待できる融着連珠構造を有する高導電性セラミックス担体Ta-SnO2にPtを担持した触媒(Pt/Ta-SnO2)を用い、静電スプレー(ES)法で触媒層を作製し、PEFCのMEA性能を評価した。ES法では、ほとんどのPt粒子がアイオノマーで被覆され、空隙率の増大も確認された。

責任著者(Corresponding author)

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