Фоточувствительные мемристорные структуры на основе восстановленного оксида графена и углеродных наночастиц
- Статья поступила: 20.10.2023 г.
- С доработки: 11.12.2023 г.
- Принята к публикации: 25.12.2023 г.
- DOI 10.26902/JSC_id125704
- EDN: ZYDMXU
- Просмотров: 212
1 Химический факультет, Московский государственный университет им. М.В. Ломоносова, Россия
2 Институт проблем микроэлектроники и особо чистых материалов РАН, Черноголовка, Россия
3 Факультет наук о материалах, Московский государственный университет им. М.В. Ломоносова, Россия
4 Институт физики твердого тела РАН, Черноголовка, Россия
5 ФИЦ Проблем химической физики и медицинской химии РАН, Черноголовка, Россия
Исследованы
фоточувствительные мемристорные структуры на основе оксида графена,
восстановленного в гидротермальных условиях. Длина волны поглощения света в
таких структурах контролировалась углеродными наночастицами, нанесенными на
поверхность пленки оксида графена. Полученные структуры демонстрировали
фотомемристивные состояния, которые контролировались светом различной длины
волны и напряжением смещения.
Ключевые слова: оксид графена, восстановленный оксид графена, углеродные наночастицы, допирование азотом, мемристивные состояния, фоточувствительность, фотомемристор
|
Импакт-фактор 0.8 |
||||
|
Срок опубликования 4 мес |
||||
Уважаемые авторы и подписчики “Журнала структурной химии”,
в свободном доступе
архив ЖСХ до 2020 года ("Номера").
Спецвыпуски
Самое интересное
Статьи, к которым чаще всего обращаются посетители
Рубрики