题名：Si中离子注入S杂质引起的深能级研究

作者：高利朋;韩培德;毛雪;范玉杰;胡少旭;

来源：

出版机构：同方知网（北京）技术有限公司

出版年:

DOI码：10.16553/j.cnki.issn1000-985x.2012.s1.001

注册时间：2016-05-06 20:02:09

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