题名：多孔石英基体上CVD法沉积氮化硅涂层的工艺、结构与性能研究

作者：李家亮;牛金叶;

来源：

出版机构：同方知网（北京）技术有限公司

出版年:

DOI码：10.16552/j.cnki.issn1001-1625.2011.05.043

注册时间：2016-05-04 18:26:27

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