题名：电化学腐蚀中多孔硅边缘效应的研究

作者：张圣;焦继伟;葛道晗;顾佳晔;严培力;张颖;

来源：

出版机构：同方知网（北京）技术有限公司

出版年:

DOI码：10.13873/j.1000-97872010.10.006

注册时间：2015-02-14 04:19:54

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