Summary
A physical method is described for correcting matrix effects in X-ray fluorescence analysis of various types of glasses. For correction are used relative complex mass absorption coefficients, which consider the absorption of exciting and measured radiation and the geometry of spectrometer. The exciting radiation is assumed as an effective energy. The physical model required the exact separation or mathematical precorrection of the influences of the apparatus, respectively of the spectral influences. The developed program for computation permits also the calibration for special elements without base of standards by reference to other elements. Only one standard with a limited number of elements is needed. The accuracy is the same as that of empirical correcting methods.
Zusammenfassung
Es wird über ein physikalisches Matrixkorrekturverfahren für die RFA mehrerer Glastypen berichtet. Zur Korrektur werden relative komplexe Massenschwä-chungskoeffizienten verwendet, die die Schwächung der anregenden und zu messenden Strahlung sowie die Spektrometergeometrie berücksichtigen. Das Konzept der effektiven Primärenergie wird realisiert. Das Korrekturmodell setzt die exakte Abtrennung bzw. rechnerische Korrektur apparativer und spektraler Einflüsse voraus. Das erarbeitete Rechenprogramm gestattet es, die Eichwerte bestimmter Elemente auf andere Elemente zu übertragen. Es wird nur eine Eichprobe benötigt. Die erzielte Richtigkeit entspricht derjenigen mathematisch-empirischer Matrixkorrekturverfahren.
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Literatur
Medicus G (1984) Dissertation A, Bergakademie Freiberg
Lab. Application Report, General Electric/Klöckner-Humboldt-Deutz, Köln, 10. 2. 1967
Sermin DF (1969) ARL Analysis Report Nr 205, 18. 3. 1969
Ryder RJ, Taylor EC (1968) Norelco-Reporter 15, 3/4:96–99
Austin MJ, Fletcher WW, Leech RJ, Hickson K (1971) Glass Technol 12 (3):65–71
Caimann V, Winter E (1971) Glastechn Ber 44 (12):519–528
Brengartner DA, Drummon ChH (1975) Am Ceram Soc Bull 54 (11):1057–1060
Dörr FJ (1981) Glastechn Ber 54 (6):186–200
Böinck J, Hertroys P (1969) Philips Bull. Nr. 79. 177/FS 20. 8. 1969
Plesch R (1974) Siemens-Z 48 (5):355–360
Dümecke G, Schindler R, Mudrack D (1981) Röntgenfluores-zenzanalyse-Anwendung in Betriebslaboratorien. VEB Deutscher Verlag für Grundstoffindustrie, Leipzig. S 243–289
Wehner B, Kleinstück K, Richter K, wie [11] (. S 104–125
Medicus G (1978) Silikattechn 29 (7):208–210
Laguitton D, Mantler M (1977) Adv X-Ray Anal 20:515
Drabseh S (1974) X-Ray Spectrometry 3:120–124
Criss JW, Birks LS (1968) Anal Chem 40 (7):1080–1086
Stephenson DA (1971) Anal Chem 43:1761–1764
Salmang H (1957) Die Glasfabrikation — Physikalische und chemische Grundlagen. Springer, Berlin Heidelberg New York, S 182
Jebsen-Morwedel H (1959) Glastechnische Fabrikationsfehler, 2. Aufl., S 415, Springer, Berlin Heidelberg New York
Brückner R, Navarro JF (1971) Glastechn Ber 44 (9):361–368
Medicus G (1983) Silikattechn 34 (2):43–45
Campbell DE, Marsaud SG (1981) Am Ceram Soc Bull 60 (6):640–642, 645
Gebhardt F, Kimmel S (1970) Glastechn Ber 43 (3):93–96
Kramer L, Krippendorf C, Möbius G, Hasenfelder E-P (1969) Jenaer Rundschau 14 (Messesonderheft):96–100
Krippendorf C, Ropte G, Hasenfelder E-P, Jüngel V, Steigert K (1977) Jenaer Rundschau 211–215
Johnson CM, Stout PR (1958) Anal Chem 30 (12):1921–1923
Steigert K, Kramer L, Puffe D, Hoppe S (1973) Jenaer Rundschau 18 (2):115–120
Jüngel V, Hoppe S, Klose D, Steigert K (1974) Jeaner Rundschau 19 (6):334–335
Ritter R (1982) Fortran-Programme. Beschreibung des RFMP, PMP 3, RMP 4 für die physikalische Matrixkorrektur, Arbeitsunterlagen des VEB Flachglaskombinat Torgau
Tertian R (1973) X-Ray Spectrometry 2:95–109
Theisen R, Vollath D (1967) Tabellen der Massenschwächungs-koeffizienten. Verlag Stahleisen, Düsseldorf
Thin TP, Leroux J (1979) X-Ray Spectrometry 8:85–91
Autorenkollektiv (1978) Tabellen aller Massenschwächungs-koeffizienten der charakteristischen Röntgenstrahlung. LNPO “Burewestnik” Leningrad
McMaster WH, Kerr del Grande N, Mallett JH, Hubbel JH (1969) Compilation of X-ray cross sections. Report UCRL 50174, Lawrence Radiation Laboratory, Livermore, USA
Jenkins R (1974) An introduction to X-ray spectrometry. Heyden, London New York Rheine p 125
Bertin EP (1975) Principles and practice of X-ray spectrometric analysis, 2. Aufl. Plenum Press, New York London p 115
de Lafolie H (1962) DEW-Technische Berichte, Bd 2, Heft 3
Plesch R (1978) X-Ray Spectrometry 7:156–159
Plesch R (1976) X-Ray Spectrometry 5:204–207
Doerffel K (1962) Beurteilung von Analysenverfahren und -ergebnissen. Springer, Berlin Heidelberg New York; Bergmann, München, S 28
Lange J (1973) Silikattechnik 24 (7):226
Völker H (1979) Silikattechnik 30 (11):346
Lange J (1981) Silikattechnik 32 (12):362
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Medicus, G., Ackermann, G. Beitrag zur physikalischen Matrixkorrektur bei der Röntgenfluorescenzanalyse von Massen- und Spezialgläsern auf silicatischer Basis. Z. Anal. Chem. 325, 667–675 (1986). https://doi.org/10.1007/BF00470972
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DOI: https://doi.org/10.1007/BF00470972